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       真空腔體是真空鍍膜機中的核心組件之一，它在鍍膜過程中扮演著重要的作用。以下是真空腔體在真空鍍膜機中的幾個主要作用：

       1、創建高真空環境：真空腔體提供了一個密封的空間，通過抽取空腔內的氣體，將腔體內部的壓力降低到較低的水平，從而創建高真空環境。高真空環境是進行薄膜沉積的基礎，可以避免氣體干擾和雜質的存在，保障薄膜的質量和均勻性。

       2、隔絕外界干擾：其密封性能能夠有效隔絕外界空氣、濕氣和雜質進入，從而避免這些干擾物質對鍍膜過程和薄膜質量的影響。保持良好的真空度可以保障薄膜的純凈性和穩定性。

       3、提供支撐和固定：它通常具有合適的結構和固定裝置，用于支撐和固定待鍍物體。這有利于保障待鍍物體在鍍膜過程中的穩定性和均勻性，以及保障薄膜在物體表面的均勻沉積。

       4、安裝和連接其他組件：它通常包括安裝和連接其他關鍵組件的接口和通道，如泵系統、鍍膜源、監測和控制設備等。這些組件通過與真空腔體的連接，共同構成完整的真空鍍膜機系統。

       5、提供溫度控制：在一些應用中，它還可以提供溫度控制功能，用于控制待鍍物體或鍍膜源的溫度。通過調節溫度，可以影響薄膜的生長速率、晶粒尺寸和結構，以滿足不同的鍍膜要求。